ПЕРЕЧЕНЬ ОБОРУДОВАНИЯ

Установка лазерной безмасковой фотолитографии μPG101

Установка лазерной безмасковой фотолитографии μPG101

Страна:  Германия

Изготовитель:  Hidelberg InstrumentsMikrotechnik GmbH

Марка:  mPG101

Год:  2012

Адрес размещения:  ул.Университетская, 10, Наноцентр ПетрГУ (чистые помещения)

Ответственный за установку:  научный сотрудник лаборатории многофункциональных гетероструктур и приборов на их основе, Беляев Максим Александрович, телефон: (8142) 711003

Установка предназначена для решения задач, не требующих высокой производительности - лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство. Экспонирование по фоторезисту или фотоэмульсии.

Минимальный топологический размер 0,6 мкм. Сменные пишущие головки на 0,6 мкм, 1,0 мкм, 2,5 мкм, 5,0 мкм. Скорость письма от 1 до 90 мм2/мин в зависимости от выбора пишущей линзы. Размер шаблонов или пластин до 6 х 6 дюймов. Область экспонирования до 125 х 125 мм.

μPG101 - это настольная установка, объединяющая в себе инновационную технологию, небольшие габариты и легкость в использовании при работе с образцами до 100 мм. Размер минимального элемента составляет до 5 мкм.

Система укомплектована откидывающейся защитной крышкой, которая обеспечивает свободный доступ к рабочему столику для быстрой загрузки/выгрузки образцов.

Базовая система лазерной литографии включает в себя следующие компоненты:

Диодный лазер для экспонирования стандартных резистов в режимах бинарной и полутоновой шкал: - длины волны: 405 нм. - выходная мощность: 60 мВт. - типичное время службы: 7500 часов - Гарантированное время службы: 5000 часов, максимум один год.

Стандартная пишущая линза – режим 3-Micron-Mode для экспонирования со следующими параметрами: - минимальный размер элемента: 3 мкм. - разрешающая способность сетки: 100 нм. - скорость письма: 30 мм 2 /мин. - максимальная область для записи: 100 х 100 мм 2 (мин. 5 мм от края подложки).

Возврат к списку