Установка магнетронного напыления

Для реализации технологии магнетронного напыления металлических и диэлектрических покрытий на твердые и дисперсные образцы.

• Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий;
• Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий;
• Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован;
• Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий;
• Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами.

• Отработки технологий нанесения покрытий;
• Проведения научных исследований в областях материаловедения, приборостроения, электроники, нанесения оптических покрытий, микромеханических устройств и др.

• Скорость осаждения зависит от типа напыляемого материала и может достигать 7,5 Å/сек;
• Однородность наносимых покрытий - ±10 %;
• Широкий диапазон плавного регулирования выходной средней мощности - от 0,1 до 3 кВт;
• Точность позиционирования подложки до 0,5 мм;
• Одновременная загрузка 4-х подложек d = 90 мм или 6-ти подложек d = 70 мм;
• Варьируемая толщина покрытий - от десятков нанометров до нескольких микрон;
• Регулировка высоты расположения мишени относительно магнетрона;
• Масса – 87 кг;
• Размеры установки (ДхШхВ) – 1050х700х670 мм.

• Автоматизация управления вакуумной системой и процессом напыления;
• Дополнительный магнетрон и ионный источник;
• Подача газа непосредственно через магнетрон;
• Устройство нагрева подложкодержателя;
• Устройство измерения толщины покрытия.